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PRODUCT DETAIL

Akrometrix AXP 2.0 热翘曲与应变测量系统

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Akrometrix AXP 2.0 热翘曲与应变测量系统
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Akrometrix AXP 2.0 热翘曲与应变测量系统

Akrometrix 热翘曲与应变测量系统,Shadow Moiré 技术,测翘曲与共面性

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产品详情DETAILS

Akrometrix 热翘曲与应变测量系统采用 Shadow Moiré(阴影云纹)技术,用于 PCB、基板、IC、封装、晶圆、面板等在不同温度曲线下的翘曲、共面性与应变测量。

核心能力

  • 温度曲线上的翘曲测量:-50°C 至 300°C
  • 适用对象:芯片、组件、PCB、堆叠芯片、晶圆、薄膜框架上的晶圆、面板
  • z 轴分辨率低至 0.85 μm
  • 不到 2 秒完成全视野图像数据采集
  • 样品尺寸范围:2 mm x 2 mm 至 610 mm x 600 mm

软件功能

  • 可预测两个基板 / 芯片 / PCB 在温度曲线上的配合情况,特别适合测量层压在一起的不同材质各层的翘曲效应
  • 测量矩阵生成器:将大区域划分为多个子区域,同时进行整体翘曲与分区翘曲测量
  • 样品追踪:多个样品可同时放入加热制程,软件自动分辨每个样品、做旋转补偿并分别报告翘曲数据
  • 晶片倾斜分析:测量晶片与基材表面之间的相对角度,用于回流或固晶界面分析

型号与规格

型号技术基板最大尺寸z 分辨率温度范围
AXP 2.0Shadow Moiré 热翘曲测量375 x 400 mm0.85 μm-50°C ~ 300°C
PS200SShadow Moiré 热翘曲测量200 x 200 mm0.85 μm25°C ~ 300°C
PS600SShadow Moiré 热翘曲测量610 x 600 mm1.5 μm25°C ~ 300°C
AKM600P专用于 FOWLP 面板 / 晶圆的热翘曲测量610 x 600 mm1.5 μm25°C ~ 300°C
TT-SM桌面型,仅室温 Shadow Moiré 翘曲测量325 x 300 mm0.85 μm室温

可选模块

  • DFP(数字边缘投影):可加装于 AXP 2.0、PS600S 或 AKM600P,用于测量表面高度有较大阶梯变化的不连续表面
  • DIC(数字图像相关性):可加装于 AXP 2.0 或 PS200S,实现基板热应变(x, y)测量,低至 150 microstrain
  • CRE(对流回流模拟器):可加装于 AXP 2.0,模拟回流炉的均匀性与加热速率

测试服务:PCB / 基板 / IC / 封装 / 整片晶圆与薄膜框架晶圆的平整度、翘曲与共面性测量;面内形变(应变)与 CTE 测量;尺寸 2x2 mm 至 600x600 mm;-50°C 至 300°C 动态温度曲线。测试于美国亚特兰大应用实验室进行,周期 2-10 天。

Akrometrix AXP 2.0 热翘曲与应变测量系统

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